在光刻工艺中，大家都知道一个原则：在软烘或硬烘过程中，如果晶圆出现半度的偏移，那么就会影响到覆盖层的精度以及线条的宽度控制。仅仅设定好温度参数并不足以确保生产出的产品合格。必须确保每轮处理过程中的温度都保持稳定。 从技术层面来看，什么才是最重要的？ 我们使用的光刻胶固化红外线灯，可以将晶圆表面的温...

在光刻车间，软烘不是简单的预热环节。它是设定光刻胶溶剂分布、锁定膜厚并定义尺寸公差的关键步骤，这些参数会直接影响曝光和显影过程。当烘烤不均匀时，结果不会只是轻微漂移，而是线宽变化、侧壁基脚缺陷，以及直接影响关键参数测试的良率下降。 传统热板可以通过延长浸泡时间掩盖不均匀性，但晶圆状态始终在变化。图...