リソグラフィ工程においては、よく知られていることですが、ソフトベイクやハードベイクの際にウェハが半度ほどずれてしまうと、オーバーレイマージンや線幅の制御が困難になります。単に設定値を調整するだけでは、良品率を確保することはできません。サイクルごとに信頼できる熱的均一性が必要です。 技術的に重要な点...

リソグラフィー工程において、ソフトベイクの際に半度程度のずれがあっただけで、パターンの寸法はナノメートル単位で変化してしまいます。このようなずれは、再作業や廃棄処理、そして規格範囲を逸脱する結果を招きます。私たちは、熱的特性を安定させるために、フォトレジストを加熱するランプを特別に設計しました。...

リソグラフィフロアにおいて、ソフトベイクは単なるウォームアップではない。これはフォトレジストの溶剤プロファイルを設定し、膜厚を固定し、露光および現像に直結する寸法公差を形成する工程である。ベイクが不均一であれば、緩やかな変動にはならず、ライン幅のばらつき、サイドウォールのフットング、そして最も影響...