ファブの現場では、フォトレジストの焼成時に0.5℃の温度変動があるだけで、多くの製品が廃棄されてしまいます。信頼できる温度制御が必要であり、推測に頼るわけにはいきません。私たちは、TEL規格に対応するヒーターランプを開発しました。このランプは、ナノメートル単位で精度よく温度制御が可能で、プロセスの安定性も高いです。
内部構造 短波長の赤外線要素と高純度の石英素材を使用しているため、迅速な反応が得られ、プロセスにノイズが混入することはありません。ワークピース全体の温度均一性は±0.1℃以内を維持でき、厳しい温度条件でも問題なく動作します。
出力は5,000時間以上にわたって安定しており、強度の低下は5％未満です。標準的な電圧設定で動作し、一般的なランプモジュールにも適合します。また、粒子の性能もクラス1～100のクリーンルーム基準を満たしています。
リソグラフィーにおける重要性 リソグラフィーにおいて、焼成温度はCDの精度や欠陥密度を決定づける重要な要素です。このランプにより、ロット間の温度プロファイルが安定し、再作業が減少し、歩留まりが向上します。効率性は、優れた赤外線結合と低い待機時の損失によって実現されます。長寿命により、予備部品の在庫やメンテナンスの必要性も減ります。その結果、予測可能なプロセスが実現し、ラインの停止回数も減少し、フォトレジストの挙動も安定します。
正しく設置するために必要なこと 設置時には、ホストランプモジュールの機械的仕様やコネクタの接続を合わせる必要があります。また、光学パスを元の公差範囲内に調整し、温度均一性を保つ必要があります。このランプは、指定されたTELプラットフォームに適合していますが、取り付ける前には、チャンバーの形状や制御ファームウェアを確認し、完全な互換性を確保する必要があります。