Di bilik pembersihan yang bersih ini, perubahan suhu yang berlaku pada pemanas yang digunakan tidak dianggap sebagai masalah yang serius. Perubahan suhu tersebut hanya sekitar 0.3°C semasa proses memanaskan bahan fotoresist. Perubahan ini juga menyebabkan perubahan lebar garisan yang dihasilkan, dan hal ini memerlukan masa seminggu untuk diperbaiki. Kami membina pemanas khusus untuk bilik pembersihan ini agar suhu tetap stabil, iaitu dalam lingkungan yang ditetapkan, bukan dalam julat variasi yang tidak diinginkan.
Apa yang penting dari segi teknikalnya
Kami menggunakan elemen inframerah gelombang pendek yang terbungkus dalam lapisan kuarsa – ia memberikan respons yang cepat dan mempunyai jisim haba yang rendah. Di kawasan kerja, keseragaman suhu pada wafer dapat dipertahankan pada tahap ±0.1°C, dari suhu 50°C hingga 300°C. Pengukuran dilakukan menggunakan termokopel yang telah dikalibrasi, di bawah beban yang setara dengan keadaan pengeluaran sebenar. Sistem kawalan adalah jenis tertutup, dengan kompensasi pelbagai zon, sehingga ketepatan antara sesi pengeluaran yang berbeza tetap berada dalam lingkungan ±0.2°C.
Badan pemanas dibuat daripada keluli tahan karat, dan sambungan antara bahagian-bahagiannya disegel dengan baik. Laluan aliran udara direka sedemikian rupa untuk meminimumkan pelepasan zarah-zarah kecil. Keserasian dengan standard bilik pembersihan kelas 1–100 dijamin melalui ujian berkala terhadap zarah-zarah yang dilepaskan.
Mengapa ia berkesan dalam penggunaan sebenar
Dalam proses pengeringan dan pembersihan wafer, pemanas ini memastikan suhu tetap stabil, sehingga penghapusan air berjalan secara konsisten – tanpa adanya gangguan suhu. Dalam proses litografi, stabiliti suhu ini membantu mengawal proses pemanggangan, sekaligus mengurangkan variasi baki pelarut dan perubahan ketebalan wafer.
Untuk proses pembungkusan, pemanas ini memendekkan masa yang diperlukan untuk memanaskan wafer, sambil memastikan suhu tetap dalam lingkungan yang ditetapkan. Penggunaan tenaga dikawal melalui pengoptimuman kitaran kerja, dan profil suhu yang stabil membantu mengurangkan pembaziran dan kerja ulang.
Apa yang perlu dirancang
Semasa pemasangan, perlu pastikan voltan yang digunakan sesuai, serta arus yang cukup pada saluran khas. Unit pemanas perlu diletakkan pada posisi yang tepat agar aliran udara tetap simetri. Kurva respons akan lebih cepat apabila ruang pemanasan sudah dipanaskan terlebih dahulu. Jika wafer dimasukkan ke dalam ruang pemanasan yang masih sejuk, akan berlaku peningkatan suhu sementara sehingga sistem kawalan dapat berfungsi dengan baik.
Rancanglah ujian singkat untuk menentukan nilai suhu yang sesuai untuk wafer dan alat pengangkutnya.