Di bilik pengeluaran semikonduktor, perubahan suhu sebanyak 1°C dalam ketuhar pembakaran lembut bukanlah perkara yang boleh diabaikan. Ia akan menjejaskan kualiti hasil pengeluaran. Proses pengeringan wafer, pra-pembakaran bahan fotoresist, dan proses penyembuhan selepas pendedahan cahaya semuanya bergantung pada kawalan suhu yang tepat. Itulah sebabnya kami memilih untuk membina sistem pemanas di China – agar dapat menghasilkan pemanas berjenis gelombang inframerah yang direka khusus untuk kawalan proses semikonduktor, bukan untuk tujuan pemasaran.
Apa yang penting dari segi teknikal
Modul IR yang digunakan mampu memberikan keseragaman suhu pada tahap wafer sebanyak ±0.1°C, dengan tahap ketepatan pengukuran sekitar ±0.2°C. Kadar pemanasan yang cepat membantu memendekkan masa yang diperlukan untuk mencapai suhu yang diinginkan. Selain itu, tiada penjanaan zarah di dalam bilik bersih, sehingga jumlah zarah tetap stabil dalam lingkungan kelas 1–100. Unsur kuarsa-halogen pula memastikan keluaran spektrum yang stabil, sehingga penyerapan cahaya oleh bahan fotoresist tetap konsisten. Badan pemanas juga sesuai digunakan dalam suasana vakum atau gas inert. Kekuatan pemanasan ditentukan berdasarkan jisim haba substrat, bukan berdasarkan reka bentuk badan pemanas itu sendiri. Dengan cara ini, proses pengeluaran akan mendapat suhu yang tepat, bukan suhu yang disebabkan oleh alat pemanas itu sendiri.
Mengapa ia berkesan dalam praktik
Dalam proses litografi, suhu pembakaran lembut mempengaruhi kelikatan bahan fotoresist dan ketebalan lapisannya. Pendekatan IR yang digunakan membolehkan parameter tersebut dikawal dengan tepat, sekali gus mengurangkan variasi ukuran dan masalah lain yang boleh timbul. Untuk proses pengeringan wafer selepas pembersihan, pemanasan yang cepat dan seragam membantu mencegah keruntuhan corak pada wafer, tanpa menyebabkan masalah lain. Selain itu, kerana IR memanaskan wafer secara langsung, penggunaan tenaga menjadi lebih rendah. Pemanas ini boleh beroperasi 24/7 dengan penyelenggaraan yang minimum. Data lapangan menunjukkan bahawa pemanas ini dapat beroperasi selama 5,000 jam atau lebih, dengan perubahan suhu kurang dari 5%.
Apa yang perlu dipertimbangkan
Pemanas ini memerlukan sumber tenaga yang khusus dan terkawal, serta kalibrasi emisiviti yang tepat untuk setiap lapisan proses. Walaupun ia boleh digunakan dalam ketuhar lama, sebarang perubahan pada jisim haba mungkin memerlukan penyesuaian sebelum mencapai suhu yang diinginkan. Sebelum menggunakan pemanas ini secara besar-besaran, adalah penting untuk melakukan ujian selama 100 jam terlebih dahulu.