Di ruang proses pengeringan tersebut, perubahan suhu sebanyak 0.5°C semasa proses pengeringan fotoresist sudah cukup untuk merosakkan keseluruhan hasil proses tersebut. Kita memerlukan sistem pemanasan yang boleh diharapkan, bukan sesuatu yang bergantung pada tekaan semata-mata. Kami telah mencipta lampu pemanas yang serasi dengan standard TEL; lampu ini berfungsi dengan baik dan mampu mengawal suhu dengan tepat, terutamanya apabila proses berlangsung dalam skala nanometer.
Apa yang ada di dalamnya?
Kami menggunakan elemen inframerah berfrekuensi tinggi serta komponen kuarsa berkualiti tinggi, agar dapat memberikan respons yang cepat tanpa menambah gangguan pada proses tersebut. Keseragaman suhu di permukaan wafer kekal pada tahap ±0.1°C – ini sangat penting untuk proses pengeringan jenis “soft bake” dan “hard bake”.
Keluaran tenaga lampu ini tetap stabil selama lebih dari 5,000 jam, dengan penurunan intensiti kurang dari 5%. Lampu ini boleh beroperasi menggunakan konfigurasi voltan standard, sesuai digunakan dengan modul lampu biasa, dan mampu memenuhi syarat-syarat bilik bersih kelas 1–100.
Mengapa ia penting dalam proses litografi?
Dalam proses litografi, suhu pengeringan merupakan faktor penting yang menentukan kualiti hasil cetakan serta kepadatan kecacatan. Lampu ini membantu mengekalkan profil suhu yang konsisten dari satu batch ke batch yang lain, sekaligus mengurangkan keperluan untuk memproses semula bahan tersebut. Kecekapan lampu ini disebabkan oleh gabungan inframerah yang efektif serta kerugian tenaga yang rendah. Jangka hayat lampu yang panjang pula membantu mengurangkan keperluan stok ganti dan kos penyelenggaraan. Hasilnya ialah proses yang lebih konsisten, penghentian proses yang lebih sedikit, serta prestasi fotoresist yang boleh diharapkan.
Apa yang perlu dilakukan?
Pemasangan lampu ini memerlukan penyelarasan mekanikal dan sambungan antara komponen lampu dengan modul lampu induk. Selain itu, laluan cahaya juga perlu diselaraskan agar keseragaman suhu dapat dipertahankan. Lampu ini merupakan pengganti yang sesuai untuk platform TEL yang ditetapkan. Namun, sebelum menggantikannya, pastikan geometri bilik proses serta perisian kawalan sesuai agar kompatibiliti dapat dipastikan sepenuhnya.