Auf der Produktionsfläche ist die Einstelltemperatur des Ofens lediglich eine Zahl auf dem Bildschirm. Der eigentliche Prozess findet jedoch auf der gesamten Oberfläche des Wafers statt – von Rand zu Rand. Wenn die thermische Homogenität abnimmt, leidet auch die Genauigkeit bei der Bearbeitung des Wafers, und dies hat wiederum Auswirkungen auf den Ätzvorgang.
Was technisch wichtig ist:
Wir haben dieses Heizsystem so konzipiert, dass die Temperatur auf Waferebene innerhalb von ±0,1 °C gesteuert werden kann. Dadurch bleibt die Qualität der bearbeiteten Wafers konstant. Kurzwelliges und mittelwelliges Infrarotlicht, das über Quarz- sowie kohlenstofffaserverstärkte Elemente übertragen wird, sorgt für schnelle und stabile Temperaturänderungen – ohne dass dabei die thermischen Grenzen überschritten werden.
Das System wird in Reinräumen der Klassen 1–100 eingesetzt. Die Heizzone ist so gestaltet, dass die Entstehung von Partikeln minimiert wird – genau dort, wo es in der Lithografie und in der Integration von Strukturen erforderlich ist. Die Reproduzierbarkeit wird durch den Kontrollkreis sichergestellt: Die Einstellwerte bleiben konstant, und die Schwankungen zwischen den einzelnen Prozessschritten sind gering.
Warum das System in der Lithografie funktioniert:
In Lithografieanlagen bedeutet diese Präzision, dass das Photoresist-Material während des Weich- und Hartbrennvorgangs vorhersagbar reagiert. Dadurch nehmen die Defekte ab und die Qualität der bearbeiteten Wafers verbessert sich. Die Reaktion ist schnell und kontrolliert – dadurch kann die Dauer des thermischen Behandlungsprozesses verkürzt werden, ohne dass die Qualität beeinträchtigt wird. Das ist besonders nützlich, wenn man mit kleineren Abständen zwischen den Strukturen und dünneren Schichten arbeitet.
Außerdem wird durch effizientes Heizen und weniger Nacharbeiten weniger Energie verbraucht. Für eine hohe Betriebsbereitschaft sorgen redundante Überwachungssysteme sowie eine solide thermische Mechanik – damit unplanmäßige Stillstände vermieden werden.
Was man berücksichtigen muss:
Bei der Integration muss die Heizzone an Ihren Ofen angepasst werden – also Anschlüsse, Entlüftungssysteme sowie andere Komponenten müssen richtig ausgerichtet werden. Es ist außerdem notwendig, die Tempo- und Zeitwerte für den Prozess entsprechend dem verwendeten Photoresist einzustellen. Zudem benötigt das System eine stabile Spannung sowie eine effektive Kühlung. Falls die Versorgungsspannung in Ihrer Gegend variabel ist, ist ein spezieller Anschluss die beste Lösung, um eine Konstanz von ±0,1 °C zu gewährleisten.