V prostředí lithografie platí jednoduché pravidlo: i malý posun o půl stupně během procesu zahřívání čipu může narušit kontrolu tloušťky vrstvy a...

V procesu litografie stačí půl stupně posunu během měkkého zahřívání fotorezistu k tomu, aby se kritická velikost změnila o několik nanometrů. Takový...