Op de productielijn is temperatuur geen comfortparameter; het is juist een essentieel onderdeel van het proces zelf. Zelfs een klein verschil van enkele tienden van een graad kan de dikte van de epitaxiale laag beïnvloeden, de concentratie van dopingstoffen veranderen en zo tot problemen leiden. De GaN MOCVD-verwarmer is ontworpen om deze onzekerheden weg te nemen.
Wat er belangrijk is De verwarmer combineert een kortegolflengte-infraroodemitter met een kwartsgebaseerde thermische systeem dat snel kan reageren en de gewenste temperatuur kan behouden. Hierdoor blijft de temperatuur over de hele oppervlakte van de schijf binnen ±0,1°C. De herhalbaarheid van de ingestelde temperatuur ligt op ±0,5°C per batch. De temperatuurstijging vindt snel plaats, namelijk tot 20°C/s. Hierdoor stabiliseert de kamer zich snel na het laden, zonder dat dit negatieve gevolgen heeft voor de thermische balans. De unit is geschikt voor gebruik in schone ruimtes van klasse 1–100. Dankzij het ontwerp met minimale uitstoot van gassen, blijft er geen stofontwikkeling optreden wanneer de unit in een stabiele staat is. De stroomvoorziening kan worden aangepast op 3-fasen 400 VAC. De interface ondersteunt standaard MOCVD-aansluitingen, zodat de unit gemakkelijk kan worden geïntegreerd zonder dat er een nieuwe ontwerpwijze nodig is.
Waarom het werkt in de productie Bij GaN-epitaxie zorgt de verwarmer ervoor dat de reactiezona snel wordt gestabiliseerd. Hierdoor werken de procesregels altijd zoals bedoeld. Deze thermische controle is ook belangrijk bij de lithografie, waar het gaat om de verwerking van fotorester. De temperatuur bereikt binnen seconden het gewenste niveau, waardoor de variatie in lijndikte wordt verminderd en de opbrengst verbetert. Ook wordt energie bespaard doordat de temperatuur constant wordt gehouden. De betrouwbaarheid van de unit is 24/7: de unit kan continu draaien zonder onverwachte stilstanden.
Wat je goed moet regelen De verwarmer presteert het beste wanneer de geometrie van de kamer overeenkomt met de specificaties voor de afstand tussen componenten en de gasstroompatronen. Als je de componenten vervangt zonder de thermische configuratie opnieuw te kalibreren, zal de uniformiteit afnemen. Tijdens de installatie moet de stroomvoorziening en de besturingssystemen van de unit worden aangesloten. We raden aan om na de installatie een korte testrun te doen om de optimale instellingen vast te stellen. Eenmaal klaar, zal het proces consistent blijven, shift na shift.