Op de productielijnen is een verschil van 1°C in de temperatuur van de oven geen kleinigheid. Het heeft invloed op de kwaliteit van het eindproduct. Het drogen van de wafers, het voorverhitten van de fotoresist en het vervolgens harden van de laag worden allemaal beïnvloed door de temperatuur. Daarom hebben we onze verwarmingssystemen in China geplaatst: om kortegolflengte-IR-verwarmers te maken die speciaal zijn ontworpen voor het beheersen van de halfgeleiderprocessen, en niet alleen voor marketingdoeleinden.
Wat technisch gezien belangrijk is: Onze IR-modules zorgen voor een constante temperatuur over de hele oppervlakte van de wafer, met een precisie van ±0,1°C. De snelheid waarmee de temperatuur kan worden verhoogd, zorgt voor een korter thermisch profiel. Bovendien zorgt het gebrek aan deeltjesvorming ervoor dat het aantal deeltjes in de schone ruimtes op het niveau van Class 1–100 blijft. De kwarts-halogeen-elementen zorgen voor een stabiele spectrale uitstoot, waardoor de absorptie van de fotoresist constant blijft. De verwarmingsunit is bovendien compatibel met vacuüm- en inertgasmethodeën. De vermogensdichtheid wordt aangepast aan de thermische massa van het substraat, zodat de procesparameters niet worden beïnvloed door de behuizing van de verwarmingsunit.
Waarom het in de praktijk werkt: In lithografieapparaten bepaalt de temperatuur rechtstreeks de viscositeit en dikte van de fotoresist. Onze IR-oplossing zorgt ervoor dat deze parameters binnen de vereiste grenzen blijven, waardoor er minder variaties zijn in de kwaliteit van het product. Voor het drogen van de wafers na een natte reiniging zorgt snelle, gelijkmatige verwarming ervoor dat er geen problemen ontstaan met het patroon op de wafer. Omdat IR de wafer rechtstreeks verwarmt, in plaats van de wanden van de kamer, neemt de energieverbruik af. De apparaten kunnen 24/7 draaien met minimale onderhoudskosten. Uit fielddata blijkt dat ze meer dan 5.000 uur kunnen werken zonder dat er meer dan 5% afwijkingen optreden in de prestaties.
Wat je moet plannen: Deze verwarmingsunits hebben een gespecialiseerde, gereguleerde stroomvoorziening nodig, evenals nauwkeurige kalibratie van de emissiviteit voor elke proceslaag. Het is mogelijk om ze in bestaande ovens te gebruiken, maar eventuele veranderingen in de thermische massa kunnen een aanpassing vereisen om de gewenste temperatuur te bereiken. Voordat je overgaat op grotere batches, is het belangrijk om eerst een testperiode van 100 uur uit te voeren en de prestaties te meten.