Op de productielijn is de ingestelde temperatuur van de oven slechts een getal op het scherm. Het echte proces vindt plaats over het hele oppervlak van de wafer. Als de thermische uniformiteit verandert, wordt ook de controle over de CD-kwaliteit beïnvloed.
Wat technisch gezien belangrijk is
We hebben dit verwarmingssysteem ontworpen met als doel om een temperatuurregeling op het niveau van de wafer te bereiken, met een uniformiteit van ±0,1°C. Hierdoor worden de vereiste temperaturen consistent bereikt over het hele oppervlak van de wafer. Kortegolf- en middengolf-infraroodstralingen, die worden afgegeven via kwarts- en koolstofvezelversterkte elementen, zorgen voor snelle en stabiele temperatuurstijgingen, zonder dat de thermische budgetten worden overschreden.
Het systeem werkt in zuiveringsruimtes van klasse 1–100. De hete zone is zo geconfigureerd dat er zo min mogelijk deeltjes worden geproduceerd – precies waar dat nodig is bij lithografie en integratieprocessen. De herhaalbaarheid van het proces wordt gewaarborgd door de geavanceerde controlemechanismen: de ingestelde waarden blijven constant, waardoor de variaties tussen cycli minimaal blijven.
Waarom dit systeem geschikt is voor lithografie
Bij lithografieprocesen betekent deze precisie dat de fotoresist zich voorspelbaar gedraagt tijdens het proces. Hierdoor verminderen de defecten en verbetert de kwaliteit van de gemaakte wafers. De respons van het systeem is snel en gestuurd, zodat je de tijd die nodig is voor de verwarming kunt verkorten, zonder dat de kwaliteit van het product wordt aangetast. Dit is handig wanneer je met kleinere afstanden en dunne lagen werkt.
Bovendien wordt er minder energie verbruikt, dankzij efficiënte verwarming en minder herwerkingen. Voor een maximale beschikbaarheid van het systeem maken we gebruik van redundante monitoringmechanismen en sterke thermische mechanismen, zodat onverwachte stilstandstijden worden voorkomen.
Wat je moet overwegen
Voor integratie moet de interface van de hete zone worden aangepast aan je oven of andere apparatuur. Denk hierbij aan conectoren, afvoerkanalen en andere benodigdheden. Er zal ook tijd nodig zijn om de optimale parameters voor je specifieke fotoresist te vinden.
Het systeem heeft bovendien stabiele stroomvoorziening en effectieve koeling nodig. Als de elektriciteitsvoorziening in jouw omgeving niet stabiel is, is het beste om een aparte leiding te gebruiken, zodat de temperatuur constant rond ±0,1°C blijft.