در کارخانههای تولید، مقدار تنظیم شده برای دمای فر، صرفاً یک عدد روی صفحه نمایش است. فرآیند واقعی، آنچیزی است که فوتورزیست در سراسر ویفر تجربه میکند. اگر یکنواختی دمایی کاهش یابد، کنترل CD نیز دچار اختلال میشود و این امر به نوبه خود باعث اختلالات در فرآیند حکاکی میگردد.
آنچه از نظر فنی اهمیت دارد:
ما این روش گرمایشی را بر اساس کنترل دمای ویفر با دقت ±۰.۱ درجه سانتیگراد طراحی کردهایم؛ بنابراین فرآیندهای گرمایشی به طور یکنواخت در سراسر ویفر انجام میشود. امواج مادون قرمز کوتاه و متوسط، که از طریق عناصر کوارتز و الیاف کربنی منتقل میشوند، باعث ایجاد روندهای گرمایشی سریع و پایدار میشوند، بدون اینکه منابع حرارتی مصرف شوند.
این سیستم در اتاقهای پاکسازی کلاس ۱ تا ۱۰۰ کار میکند؛ همچنین، منطقه گرمایشی به گونهای طراحی شده است که تولید ذرات کاهش یابد؛ دقیقاً همانجایی که لیتوگرافی و یکپارچهسازی الگوها نیاز به آن دارند. قابلیت تکرارپذیری نیز در سیستم وجود دارد؛ مقادیر تنظیم شده ثابت میمانند و تغییرات بین چرخههای مختلف نیز کم است.
چرا این روش در لیتوگرافی مؤثر است؟
در خطوط لیتوگرافی، این دقت باعث میشود که فوتورزیست در طول فرآیندهای گرمایشی رفتار پیشبینیپذیری داشته باشد؛ در نتیجه، نقصها کاهش یافته و کیفیت ویفرهای تولید شده بهبود مییابد. پاسخ سیستم سریع و کنترلشده است؛ بنابراین میتوانید زمان گرمایش را کاهش دهید، بدون اینکه کیفیت ویفرها تحت تأثیر قرار بگیرد. این موضوع در زمانی که نیاز به فواصل کوتاهتر و لایههای نازکتر وجود دارد، بسیار مفید است.
همچنین، به دلیل گرمایش کارآمد و کاهش تعداد تولیدات مجدد، مصرف انرژی نیز کاهش مییابد. برای حفظ زمان کاری، این سیستم از نظارتهای متعدد و مکانیک حرارتی قوی استفاده میکند؛ تا از توقفهای غیرمنتظره جلوگیری شود.
آنچه باید برای طراحی سیستم در نظر بگیرید:
یکپارچهسازی سیستم به معنای تطبیق رابطه بین منطقه گرمایشی و فر است؛ شامل اتصالات، سیستمهای تخلیه هوا و سایر عناصر مربوطه. برای تنظیم سرعت گرمایش و زمان لازم برای فرآیند، به زمان کافی برای تنظیمات نیاز است.
همچنین، سیستم نیاز به ولتاژ پایدار و سیستم خنککننده مناسب دارد. اگر منابع انرژی در منطقه شما ناپایدار باشند، استفاده از یک خط انرژی مجزا بهترین راه برای حفظ دقت دمایی ±۰.۱ درجه سانتیگراد است.