Di bilik litografi, perubahan suhu sebanyak setengah darjah semasa proses pemanasan bahan fotoresist sudah cukup untuk mengubah dimensi kritikalnya sebanyak beberapa nanometer. Perubahan seperti ini akan menyebabkan keperluan untuk melakukan kerja-kerja pembaikan, pembaziran bahan, serta ketidakpatuhan terhadap spesifikasi yang ditetapkan. Kami telah membina lampu pemanas khas untuk memastikan tingkah laku termalnya tetap konsisten dari satu sesi pengeluaran ke sesi yang lain.
Apa yang penting dalam proses ini
Kami menggunakan pengeluarkan sinar inframerah gelombang pendek (NIR) untuk memanaskan bahan fotoresist secara langsung dan cepat. Suhu keluaran tetap stabil antara 50°C hingga 250°C. Kekonsistenan suhu di seluruh permukaan wafer adalah dalam lingkungan ±0.1°C, manakala kebolehulangan pula adalah dalam lingkungan ±0.5°C dari satu kumpulan produk ke kumpulan yang lain. Lampu ini juga sesuai digunakan dalam bilik bersih dengan tahap kebersihan dari Kelas 1 hingga Kelas 100. Bahan-bahan yang digunakan dipilih agar menghasilkan sedikit gas dan tiada zarah berbahaya. Suhu diukur dan direkodkan secara masa nyata, supaya setiap proses pengeluaran dapat dikaitkan dengan hasil yang diharapkan, dengan data yang boleh dikesan.
Mengapa ia berkesan dalam proses pengeluaran
Lampu ini dapat melaksanakan semua langkah pemanasan yang diperlukan—seperti pengeringan wafer, pemanasan bahan fotoresist, dan proses pengerasan bahan tersebut—tanpa melebihi had suhu yang ditetapkan. Proses pemanasan berlaku dengan cepat, jadi masa yang diperlukan untuk setiap kitaran pengeluaran menjadi lebih singkat. Respons spektrum yang sempit membantu mengurangkan pemanasan pada substrat, sekaligus melindungi lapisan-lapisan yang ada di bawahnya. Hasilnya ialah lebih sedikit kecacatan, kurang pembaziran bahan, serta kawalan yang lebih baik terhadap dimensi, profil, dan sisa pelarut yang ada. Penggunaan tenaga juga berkurangan kerana haba disalurkan terus ke bahan fotoresist, bukan ke komponen atau ruang sekeliling.
Beberapa realiti di tempat kerja
Intensiti sinar NIR menurun mengikut kuasa dua jaraknya, jadi jarak antara lampu dan objek yang dipanaskan perlu tetap dan konsisten. Pastikan bahan yang digunakan untuk memegang wafer serta geometri reflektor sesuai dengan profil termal lampu tersebut. Pengintegrasian lampu ini ke dalam sistem pengeluaran yang sedia ada adalah mudah, tetapi perlu merancang masa yang sesuai untuk pemasangan serta penyambungan saluran penyejuk.