揮発性化学物質を使って清掃するときの安全性の確保 正直言って、赤外線ランプを化学物質のある場所に設置するのは、まるで火遊びのようなものです。周囲には可燃性の蒸気が漂っており、また、触れるものすべてを腐食させる性質のある物質も存在します。普通のランプをその場所に設置してしまうと、まず間違いなく事故が...

ウェーハの加熱を適切に行うために（エネルギーを無駄にしない方法） シリコンウェーハの洗浄処理を行う際、バランスを取るのが難しい。表面を乾かしつつ高温に保つ必要があるが、チャンバー全体をオーブンのようにしてしまったり、過度な電力を消費したくはないのだ。 私たちは、防水仕様のIRランプと金メッキされた...

熱の無駄遣いを止めよう：金コーティングされたクォーツの魔法 ウェーハの製造においては、シリコン表面に熱を与えるのが非常に難しいことがすぐにわかります。 問題は、一般的なランプはエネルギーをあらゆる方向に放出してしまう点です。つまり、消費されるエネルギーの半分はウェーハではなく、機械自体を加熱するた...

化学処理を行う際には、ウェハーを安全に保つことが重要です。ウェハーの硬化には多くの熱が必要ですが、そのランプを化学洗浄ステーションのすぐ近くに置くと問題が生じます。揮発性の蒸気が至る所に漂い、火花が発生して作業場が火災になってしまう可能性があります。 だからこそ、密封や反射機能を重視するのです。こ...

クラス100のクリーンルームを常に清潔な状態に保つ方法 もしクラス100のクリーンルームを運営しているなら、粒子汚染という問題がどれほど深刻かはご存知でしょう。ヒーターからわずかな破片が飛び出すだけで、作業した製品全体が無駄になってしまいます。実際、このようなことは思ったよりも頻繁に起こります。一...

バイオセンサー製造における適切な温度管理 バイオセンサーを作るには、バランスをうまく取る必要があります。たとえわずかな温度の誤差があっても、そのロット全体が無価値になってしまいます。だからこそ、私たちは短波長の赤外線システムを利用しています。これにより、硬化や乾燥の工程を迅速に行うことができ、現代...

揮発性化学物質の近くで赤外線ヒーターを使用する際の安全対策 もしあなたが化学物質を使った清掃作業を行っているのであれば、その危険性はよくご存知でしょう。可燃性の溶剤や蒸気を扱っているわけですから、ちょっとした火花やクォーツ管の微細なひび割れでも、瞬時に火災が発生してしまいます。 このような状況にお...

クラス100のクリーンルームを常に清潔な状態に保つために クラス100の環境で作業を行う際、加熱はかなり難しい問題です。単に物を温めるだけではなく、うっかり微粒子を作業エリアに放出しないようにする必要があります。 一般的な加熱素子は危険です。それらはガスを放出し、微細な粒子を飛ばします。これは大き...

なぜ半導体製造においてUHP赤外線加熱を採用するのか 半導体業界では、従来の対流式オーブンから離れていく傾向にあります。今、Ultra High Purity（UHP）赤外線ヒーターが急速に普及しています。これは単なる業界のトレンドではありません。厳しい無鉛化や「グリーン」な乾燥基準を満たしつつ、...

クリーンルームでの二酸化炭素排出量削減：なぜ赤外線ベンチヒーターが効果的なのか 正直に言って、クリーンルームはエネルギーの消費が激しい場所です。もしまだ古い方式の対流式オーブンを使っているなら、数枚のウェーハを適切な温度にするために、部屋全体を加熱する必要があります。これは金銭的な無駄遣いであり、...

認定された赤外線硬化ランプ：半導体の乾燥に最適なソリューション これからは、半導体製造に特化して設計された赤外線硬化ランプについて説明しましょう。ここでは、規則に妥協する余地はありません。鉛を含まず、クリーンで効率的に動作し、世界基準を完全に満たしています。このような製造ラインでは、単に熱を上げる...

リソグラフィ工程においては、よく知られていることですが、ソフトベイクやハードベイクの際にウェハが半度ほどずれてしまうと、オーバーレイマージンや線幅の制御が困難になります。単に設定値を調整するだけでは、良品率を確保することはできません。サイクルごとに信頼できる熱的均一性が必要です。 技術的に重要な点...

リソグラフィー工程において、ベイク処理は単なるウォームアップではありません。これはフォトレジストの特性を定めるための重要な工程です。ソフトベイクでもハードベイクでも、2℃程度の温度変動があると、寸法制御が乱れ、ライン上に汚れが残ってしまいます。スピンコーター用のベイクランプの役割は、分単位でプロセ...

リソグラフィー工程において、ソフトベイクの際に半度程度のずれがあっただけで、パターンの寸法はナノメートル単位で変化してしまいます。このようなずれは、再作業や廃棄処理、そして規格範囲を逸脱する結果を招きます。私たちは、熱的特性を安定させるために、フォトレジストを加熱するランプを特別に設計しました。...

ファブの現場では、フォトレジストの焼成時に0.5℃の温度変動があるだけで、多くの製品が廃棄されてしまいます。信頼できる温度制御が必要であり、推測に頼るわけにはいきません。私たちは、TEL規格に対応するヒーターランプを開発しました。このランプは、ナノメートル単位で精度よく温度制御が可能で、プロセスの...

ウェーハフロア上では、フォトレジストのベークは単なる温度管理のステップではなく、熱的な契約である。ソフトベークやハードベークで1℃の変動があると、重要な寸法がずれ、それに伴いラインの歩留まりも変動する。そこで、モリブデン支持の赤外線ランプを開発し、その熱的ラインをサイクルごとに安定して保持している...

アウトライン上では、ミニLEDチップは熱ドリフトを許容しません。パッケージランプの温度が±0.1℃を超えると、共晶結合がずれ、色座標が変動し、歩留まりが急激に低下します。このランプはファブフロアのために設計されており、マーケティングプレゼンテーションのためではありません。 技術的に重要な点： ラン...

リソグラフィ工程では、ソフトベークとハードベークの間にほとんど余裕がない。0.5℃の変動でフォトレジストの厚みが変わり、クリティカルディメンションのバイアスがずれ、突然歩留まりが仕様から外れてしまう。そこで、プロセスの許容範囲を狭め、安定化させるために有機半導体乾燥用ランプを開発した。 内部のポイ...