Nel processo di litografia, anche un’oscillazione di mezzo grado durante la fase di riscaldamento del fotorestituto è sufficiente per far variare le dimensioni critiche del componente prodotto di alcuni nanometri. Questo tipo di oscillazione comporta la necessità di effettuare rifacimenti, aumentando così i costi e i rifiuti. Abbiamo progettato le lampade utilizzate per il riscaldamento del fotorestituto in modo che il loro comportamento termico rimanga prevedibile, ciclo dopo ciclo.
Cosa è importante sotto il profilo tecnico
Utilizziamo emettitori a infrarossi a breve lunghezza d’onda, che riscaldano direttamente e rapidamente il fotorestituto. La temperatura di uscita rimane stabile compreso tra 50°C e 250°C. L’uniformità della temperatura su tutta la superficie del wafer è di ±0,1°C, mentre la ripetibilità è di ±0,5°C da lotti diversi. Le lampade sono compatibili con ambienti di tipo Class 1 fino a Class 100; i componenti e i materiali utilizzati garantiscono una bassa emissione di gas e assenza di particelle. La temperatura viene misurata e registrata in tempo reale, così da poter collegare ogni ciclo di produzione ai risultati ottenuti, grazie a dati tracciabili.
Perché funzionano bene in produzione
Le lampade permettono di gestire correttamente le fasi termiche fondamentali: essiccazione del wafer, riscaldamento delicato del fotorestituto e riscaldamento completo/indurimento del materiale. Inoltre, il tempo necessario per raggiungere la temperatura desiderata è breve, quindi il tempo di ciclo diminuisce senza superare il punto critico di transizione termica del fotorestituto. La risposta spettrale limitata riduce il riscaldamento del substrato, proteggendo così i materiali sottostanti. Il risultato è una riduzione dei difetti, meno rifiuti e un controllo preciso sulle dimensioni del componente, sul suo profilo e sui solventi residui. Inoltre, il consumo energetico diminuisce, poiché il calore viene utilizzato solo per riscaldare il fotorestituto, e non per riscaldare gli impianti o l’ambiente circostante.
Alcune considerazioni pratiche
L’intensità dei raggi infrarossi diminuisce con il quadrato della distanza; pertanto, lo spazio tra la lampada e il fotorestituto deve essere costante e preciso. È necessario effettuare una breve fase di riscaldamento e calibrazione prima di iniziare ogni ciclo di produzione. Assicuratevi che il materiale utilizzato per il supporto del wafer e la geometria dei riflettori siano compatibili con il profilo termico della lampada. L’integrazione con le linee di produzione esistenti è semplice, ma è necessario pianificare adeguatamente i tempi per le modifiche necessarie agli impianti e alle tubazioni di raffreddamento.