Mantenere le cose al sicuro quando si puliscono con sostanze chimiche volatili Se siamo onesti: utilizzare lampade a raggi infrarossi in un ambiente...

Come riscaldare correttamente le lastre di silicio (senza sprecare energia) Quando si tratta di processi di lavaggio delle lastre di silicio, è...

Smettete di sprecare calore: la magia del quarzo rivestito d’oro Quando si lavora nella produzione di wafer, ci si rende subito conto che far...

Mantenere le cose al sicuro durante il trattamento delle wafer nelle zone chimiche Per procedere con il trattamento delle wafer è necessaria una...

Come mantenere una sala pulita di classe 100 davvero pulita Se gestite una sala pulita di classe 100, sicuramente conoscete bene il problema legato...

Ottenere la temperatura ideale nella produzione di biosensori La produzione di biosensori richiede un equilibrio preciso tra diversi fattori. Anche...

Come mantenere la sicurezza quando si utilizza il calore infrarosso vicino a sostanze chimiche volatili Se gestite linee di pulizia chimica,...

Mantenere una sala pulita di Classe 100 davvero pulita Quando si lavora in un ambiente di Classe 100, il riscaldamento rappresenta un vero problema....

Perché passiamo all’uso di lampade a radiazione infrarossa ad alta purezza nei processi di essiccazione semiconduttori Il mondo dei semiconduttori...

Ridurre le emissioni di carbonio nelle stanze pulite: perché il riscaldamento a raggi infrarossi funziona davvero Se siamo onesti, le stanze pulite...

Lampe per la polimerizzazione a infrarossi certificate: la soluzione ideale per il essiccazione dei semiconduttori Parliamo di lampade per la...

Nella fase di litografia, si sa bene che anche un piccolo spostamento di mezzo grado sul wafer durante la fase di essiccazione può compromettere il...

Nella fase di litografia, la fase di “bake” non rappresenta semplicemente un riscaldamento preliminare: essa serve infatti a definire il profilo del...

Nel processo di litografia, anche un’oscillazione di mezzo grado durante la fase di riscaldamento del fotorestituto è sufficiente per far variare le...

Sul piano di produzione, una variazione di temperatura di soli 0,5°C durante il processo di essiccazione del fotorestringente può essere fatale per...

Sul piano wafer, una cottura del photoresist non è solo una fase di temperatura, ma un contratto termico. Uno scostamento di 1°C nella soft bake o...

In linea, i chip Mini LED non tollerano la deriva termica. Se la lampada di imballaggio oscilla più di ±0,1°C, si verificano legami eutettici...

On the lithography floor, non c’è molto margine di manovra tra soft bake e hard bake. Una variazione di mezzo grado può modificare lo spessore del...