光刻胶软烤温度红外

在光刻车间，软烘不是简单的预热环节。它是设定光刻胶溶剂分布、锁定膜厚并定义尺寸公差的关键步骤，这些参数会直接影响曝光和显影过程。当烘烤不均匀时，结果不会只是轻微漂移，而是线宽变化、侧壁基脚缺陷，以及直接影响关键参数测试的良率下降。 传统热板可以通过延长浸泡时间掩盖不均匀性，但晶圆状态始终在变化。图...