در فرآیند لیتوگرافی، حتی انحراف نیم درجهای در دمای حرارتی مورد نیاز برای پختن رزیست، میتواند باعث تغییر ابعاد مهم قطعات شود؛ این انحرافات منجر به نیاز به کارهای تکراری، تولید ضایعات و عدم رعایت استانداردها میشود. ما لامپهای مورد استفاده برای پختن رزیست را به گونهای طراحی کردهایم که رفتار حرارتی آنها در هر بار استفاده قابل پیشبینی باشد.
چه چیزهایی اهمیت دارد؟
ما از فرستندههای مادون قرمز با طول موج کوتاه استفاده میکنیم؛ این فرستندهها، رزیست را به طور مستقیم و سریع گرم میکنند. دمای خروجی از ۵۰ درجه سانتیگراد تا ۲۵۰ درجه سانتیگراد ثابت باقی میماند. در سراسر ویفر، یکنواختی دما در حد ±۰.۱ درجه سانتیگراد است؛ همچنین تکرارپذیری دما نیز در حد ±۰.۵ درجه سانتیگراد است. این سیستم با استانداردهای اتاقهای پاکسازی از کلاس ۱ تا کلاس ۱۰۰ سازگار است؛ همچنین، تجهیزات و مواد مورد استفاده، برای کاهش انتشار گازها و جلوگیری از تولید ذرات، انتخاب شدهاند. دما به صورت لحظهای اندازهگیری و ثبت میشود؛ بنابراین میتوانید هر بار کار را با استفاده از دادههای قابل ردیابی، مرتبط با بازدهی کلی در نظر بگیرید.
چرا این سیستم در خط تولید موفق عمل میکند؟
این لامپ، مراحل حرارتی مهم مانند خشک کردن ویفر، پختن نرم رزیست و پختن سخت/ترمیم رزیست را انجام میدهد، بدون اینکه منجر به افزایش بیش از حد دما شود. زمان لازم برای رسیدن به دمای مناسب کوتاه است؛ بنابراین زمان چرخه کاری کاهش مییابد، بدون اینکه دما از حد مجاز فراتر رود. پاسخ طیفی محدود این لامپ، باعث کاهش گرمای ویفر میشود و از آسیب رسیدن به لایههای زیرین جلوگیری میکند. نتیجه این امر، کاهش نقصها، کاهش ضایعات و کنترل بهتر ابعاد و مواد موجود در قطعات است. مصرف انرژی نیز کاهش مییابد، زیرا گرما صرف رزیست میشود، نه تجهیزات یا فضای اطراف.
چند واقعیت مربوط به خط تولید:
شدت نور مادون قرمز با مجذور فاصله کاهش مییابد؛ بنابراین فاصله کاری باید ثابت و قابل پیشبینی باشد. انتظار داشته باشید که قبل از هر بار کار، نیاز به گرمکردن و تنظیمات لازم وجود داشته باشد. مطمئن شوید که مواد مورد استفاده برای نگهداری ویفر و همچنین ساختار منعکسکنندهها، با پروفایل حرارتی لامپ سازگار باشند. ادغام این سیستم در خطوط تولید موجود نیز آسان است؛ اما باید زمان لازم برای تغییرات مکانیکی و لولههای خنککننده را نیز در نظر بگیرید.