Đèn sấy trong quá trình phủ lớp spin coating
Trong quy trình in ấn bằng phương pháp lithography, việc sấy khô chất phủ không chỉ nhằm mục đích làm ấm chất phủ mà còn giúp thiết lập độ dày của...
Đèn sấy chất cảm quang
Trong quy trình in ấn bằng phương pháp litography, chỉ cần có sự thay đổi nhiệt độ khoảng nửa độ trong quá trình làm nóng chất phủ bề mặt wafer, thì...
Nhiệt độ nung mềm ảnh quang nhạy IR
Trên sàn lithography, soft bake không phải là một bước khởi động nhẹ nhàng. Đây là bước xác định hồ sơ dung môi của photoresist, cố định độ dày màng,...