<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Сушка on Eco-Friendly Warm IR Heaters</title>
		<link>http://warm-ir-heater-eco.com/ru/tags/%D1%81%D1%83%D1%88%D0%BA%D0%B0/</link>
		<description>Recent content in Сушка on Eco-Friendly Warm IR Heaters</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ru</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Mon, 27 Jul 2026 17:04:12 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://warm-ir-heater-eco.com/ru/tags/%D1%81%D1%83%D1%88%D0%BA%D0%B0/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Нагреватель для сушки пластин с датчиками MEMS</title>
				<link>http://warm-ir-heater-eco.com/ru/posts/reducing-equipment-wall-heat-in-mems-wafer-drying-via-directional-ir-heating/</link>
				<pubDate>Mon, 27 Jul 2026 17:04:12 +0800</pubDate>
				<guid>http://warm-ir-heater-eco.com/ru/posts/reducing-equipment-wall-heat-in-mems-wafer-drying-via-directional-ir-heating/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://warm-ir-heater-eco.com/images/0a976f8a438e1a813cc995e9355a4471.png&#34; alt=&#34;Нагреватель для сушки пластин с датчиками MEMS&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Прекратите нагревание оборудования – начните сушку вафер. Если вы когда-либо работали над производством MEMS-устройств, вы знаете, насколько сложно сушить ваферы. Приходится постоянно бороться с остатками жидкости на поверхности ваферов.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Старый способ – использование обычных конвекционных печей – крайне неэффективен. В результате нагревается вся камера. Это расточительство энергии, к тому же внешняя часть дорогостоящего оборудования превращается в своего рода радиатор. Нередко стены оборудования нагреваются до такой степени, что могут обжечь человека.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Поэтому мы перешли на использование направленного инфракрасного нагрева. Секрет заключается в том, что вместо нагрева воздуха мы используем инфракрасные лампы, которые направляют электромагнитное излучение прямо на поверхность вафера. Мы используем коротковолновое инфракрасное излучение, поскольку оно быстрее проникает сквозь слой жидкости на поверхности вафера, чем длинноволновое излучение.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
			<item>
				<title>Лампа для сушки органических полупроводников</title>
				<link>http://warm-ir-heater-eco.com/ru/posts/organic-semiconductor-drying-lamp/</link>
				<pubDate>Tue, 02 Jun 2026 04:14:08 +0800</pubDate>
				<guid>http://warm-ir-heater-eco.com/ru/posts/organic-semiconductor-drying-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://warm-ir-heater-eco.com/images/c4487c91a5d0bd93963bf8b3a19ba704.png&#34; alt=&#34;Лампа для сушки органических полупроводников&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;На литографическом этаже нет большого запаса между мягкой и твердой выпечкой. Смещение температуры всего на полградуса может изменить толщину фоторезиста, сдвинуть критическое смещение размерности и внезапно привести к несоответствию выхода спецификациям. Мы разработали сушильную лампу для органических полупроводников, чтобы сузить этот допуск и предотвратить отклонение процесса.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Что важно внутри&lt;/strong&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Лампа воздействует на пластину ближним инфракрасным излучением (NIR) и контролирует спектр, обеспечивая быстрый безконтактный нагрев. По всему полю экспозиции тепловая однородность на уровне пластины удерживается в пределах ±0.1°C — каждая микросхема получает одинаковый тепловой бюджет. Устройство работает в чистых помещениях класса 1–100 без генерации частиц, а выходная мощность стабильно сохраняется в течение более 5,000 часов с падением менее 5%. Повторяемость температуры выпечки фоторезиста между циклами стабильна, система функционирует круглосуточно без непредвиденных простоев.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
