Secador de wafers com aquecimento uniforme

Tue, 09 Jun 2026 01:30:44 +0800

O wafer atinge a pista de rotação, e o relógio começa a contar. Na linha, um minuto de desvios de temperatura é suficiente para alterar sua dimensão crítica, e uma partícula pode comprometer todo o lote. Os secadores antigos nunca mantiveram uniformidade em toda a extensão de 300 mm enquanto permaneciam limpos. Nós construímos o Secador de Wafer com Aquecimento Uniforme para eliminar essa variabilidade.

O que importa por dentro
Internamente, emissores de infravermelho de onda curta estão dispostos em uma câmara otimizada para refletor, garantindo uniformidade térmica ao nível do wafer de ±0.1°C em 300 mm, respaldada por um mapa calibrado de 9 pontos. As rampas de temperatura superam 10°C/s com overshoot controlado, de modo que seu orçamento térmico se alinha com as receitas de cozimento leve e cozimento forte sem excessos na cura do fotossensível.
É nativo de sala limpa: operação de Classe 1–100, fluxo de ar integrado com HEPA, filtragem de exaustão e materiais de baixa emissão que mantêm a geração de partículas em zero durante o ciclo. O loop de controle é PID com resolução de ponto de ajuste de 0.05°C, e você pode armazenar uma receita por processo. Essa repetibilidade mantém CD e perfil dentro das especificações, turno após turno.

Uniforme on Eco-Friendly Warm IR Heaters

Secador de wafers com aquecimento uniforme