Lâmpada infravermelha para cura do fotoresisto

Thu, 02 Jul 2026 04:06:17 +0800

No processo de litografia, você sabe qual é o procedimento padrão: uma desviação de meio grau na direção da bolacha durante o processo de cura do fotolito pode prejudicar o controle da margem e da largura das linhas. Apenas os valores definidos para o processo não são suficientes para garantir um bom resultado. É necessário ter uniformidade térmica confiável, ciclo após ciclo.

O que realmente importa, do ponto de vista técnico As lâmpadas infravermelhas utilizadas no processo de cura do fotolito mantêm a uniformidade da temperatura da bolacha dentro de ±0,1°C, com uma rampa de aquecimento rápida, o que permite um controle preciso da temperatura. O espectro infravermelho é escolhido porque permite transferir calor de maneira eficiente, sem causar estresse excessivo no substrato. O corpo da lâmpada e suas ópticas são projetados para funcionar em ambientes de classe 1–100. A ausência de partículas não é apenas um benefício decorativo – ela está integrada aos materiais, à geometria e ao sistema de fluxo de ar. Assim, obtém-se perfis de cura repetíveis, desempenho estável por mais de 5.000 horas, e controle preciso do processo, mesmo durante 24 horas por dia.

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Lâmpada infravermelha para cura do fotoresisto