Infrarode lamp voor het cureren van photoresist

Thu, 02 Jul 2026 04:06:17 +0800

Op de lithografieafdeling geldt hetzelfde principe als altijd: een verschuiving van een halve graad op het wafer tijdens het proces van zacht of hard bakken, kan de controle over de dikte van de laagjes en de breedte van de lijnen ernstig beïnvloeden. Alleen de ingestelde parameters zijn niet voldoende om een stabiele productie te garanderen. Je hebt thermische uniformiteit nodig die je van cyclus tot cyclus kunt vertrouwen.

Wat technisch gezien belangrijk is: De infraroodlampen die worden gebruikt voor het drogen van de fotoresist, zorgen voor een temperatuuruniformiteit op het waferniveau van ±0,1°C. De lampen hebben een snelle respons, waardoor de thermische belasting minimaal blijft. Het NIR-spectrum wordt gekozen omdat het hitte effectief kan overdragen, zonder dat dit leidt tot spanningen in het materiaal. De lampen en de optica zijn ontworpen om te werken in een schoneomgeving van klasse 1–100. Het voorkomen van deeltjes is geen slogan – het zit ingebakken in de materialen, de geometrie en de luchtstroom. Hierdoor krijg je herhaalbare resultaten, een stabiele prestatie over meer dan 5.000 uur, en een procescontrole die 24/7 kan werken.

Fotoresist on Eco-Friendly Warm IR Heaters

Infrarode lamp voor het cureren van photoresist