Op de lithografieafdeling is het ‘bake-proces’ geen soort opwarmproces; het bepaalt juist de structuur van de fotorezerve. Een afwijking van 2°C...

Op de lithografieafdeling is zelfs een afwijking van een halve graad tijdens het zacht bakken voldoende om de cruciale dimensies met nanometers te...

Op de lithografievloer is soft bake geen warming-up rondje. Het is de stap die het fotoresist-oplosmiddelprofiel bepaalt, de filmdikte verankert en...