Op de lithografieafdeling geldt hetzelfde principe als altijd: een verschuiving van een halve graad op het wafer tijdens het proces van zacht of hard bakken, kan de controle over de dikte van de laagjes en de breedte van de lijnen ernstig beïnvloeden. Alleen de ingestelde parameters zijn niet voldoende om een stabiele productie te garanderen. Je hebt thermische uniformiteit nodig die je van cyclus tot cyclus kunt vertrouwen.
Wat technisch gezien belangrijk is: De infraroodlampen die worden gebruikt voor het drogen van de fotoresist, zorgen voor een temperatuuruniformiteit op het waferniveau van ±0,1°C. De lampen hebben een snelle respons, waardoor de thermische belasting minimaal blijft. Het NIR-spectrum wordt gekozen omdat het hitte effectief kan overdragen, zonder dat dit leidt tot spanningen in het materiaal. De lampen en de optica zijn ontworpen om te werken in een schoneomgeving van klasse 1–100. Het voorkomen van deeltjes is geen slogan – het zit ingebakken in de materialen, de geometrie en de luchtstroom. Hierdoor krijg je herhaalbare resultaten, een stabiele prestatie over meer dan 5.000 uur, en een procescontrole die 24/7 kan werken.
Waarom dit in de praktijk werkt: Tijdens het proces van het drogen van de fotoresist bepaalt de tempeartuur de kwaliteit van de expositie en ontwikkeling. De infraroodlampen verkleinen de tijd die nodig is voor het drogen, verminderen de thermische vertraging en houden de tempeartuur gelijk over het hele wafer. Hierdoor zijn er minder fouten en minder afval. De energieverbruik neemt af, omdat het systeem de hitte precies daar toepast waar het nodig is. De betrouwbaarheid neemt toe, omdat de thermische stabiliteit geen probleem meer vormt.
Wat je moet onthouden: Bij de installatie moet de grootte van de lamp en het type connector worden afgestemd op het apparaat waarin de lamp wordt gebruikt. De toleranties voor integratie zijn zeer klein; het correct uitlijnen van de lamp heeft invloed op de uniformiteit. De lamp presteert het beste wanneer de afvoerkanalen en koelsystemen in de chamber overeenkomen met het ontwerp. Anders kan dit leiden tot problemen. Voer eerst een kort testproces uit om de instellingen te bepalen, en gebruik deze dan met vertrouwen.