Pemanas sokongan untuk sistem kriogenik

Sun, 28 Jun 2026 02:11:53 +0800

Di bilik proses pengeluaran wafer, kestabilan suhu bukanlah sesuatu yang boleh diabaikan – ia merupakan syarat penting dalam proses pengeluaran. Dalam proses pengeringan wafer dan pengendalian bahan fotoresist, perubahan suhu sebanyak beberapa persepuluh darjah Celsius pun boleh menyebabkan perubahan pada dimensi penting wafer, serta menimbulkan masalah seperti sisa-sisa bahan atau kecacatan pada permukaan wafer. Kami telah membangunkan sistem pemanas kriogenik untuk memastikan suhu tetap stabil di kawasan di mana wafer berada.

Apa yang penting dari segi teknikalnya
Kami menggunakan pemanas yang kompak, bersama-sama dengan teknologi inframerah gelombang pendek dan sistem kawalan yang responsif, untuk mencapai keseragaman suhu pada tahap wafer dalam lingkungan ±0.1°C. Reka bentuk termal ini dapat mengurangkan kesan negatif akibat perbezaan suhu, sekaligus memastikan kebolehulangan hasil pengeluaran yang konsisten. Ini sangat penting apabila jendela waktu pemanasan sangat sempit. Pemanas ini mampu berfungsi dengan stabil selama lebih dari 5,000 jam. Bahan-bahan yang digunakan serta cara penyambungannya direka agar dapat mengurangkan pembentukan zarah-zarah yang tidak diinginkan, sehingga pemanas ini sesuai digunakan di bilik bersih kelas 1–100.

Lamp inframerah sokongan molibdenum

Sat, 06 Jun 2026 01:44:27 +0800

On the wafer floor, a photoresist bake isn’t just a temperature step—it’s a thermal contract. A 1°C drift in soft bake or hard bake will move critical dimensions and take line yield with it. We built the molybdenum-supported infrared lamp to hold that thermal line steady, cycle after cycle. Apa yang penting, dari segi teknikal Pemancar menggunakan inframerah gelombang pendek untuk pemanasan cepat dan terarah yang kekal dalam belanjawan terma photoresist. Struktur sokongan molibdenum mengekalkan kestabilan suhu tinggi dengan pelepasan gas rendah, maka bilangan partikel kekal rendah walaupun dalam bilik bersih Kelas 1–100. Sistem ini mensasarkan keseragaman tahap wafer dalam ±0.1°C merentasi permukaan bakar, dan kebolehulangan ditetapkan untuk memastikan setpoint terkunci dengan ketat. Output kekal stabil sepanjang operasi panjang—unit medan telah mencapai lebih 5,000 jam dengan penurunan kurang daripada 5%. Ini sebabnya ia berfungsi dalam amalan: pemprosesan photoresist adalah di mana kawalan terma menjadi kawalan hasil. Lampu ini mengekalkan konsistensi profil soft bake dan hard bake, yang mengurangkan scumming, footing, dan perubahan sisa pelarut. Keputusannya ialah kurang lot kerja semula, kurang sisa, dan prestasi CD yang boleh dipercayai sepanjang litografi. Profil suhu stabil juga membantu anda menjalankan tingkap proses yang lebih ketat, dan reka bentuk sesuai bilik bersih mengurangkan kejadian pencemaran yang menghentikan barisan. Beberapa perkara untuk diingati. Pemasangan bermaksud menyesuaikan jejak lampu dan antara muka elektrik dengan trek bakar atau plat panas. Sampul kuarza perlu dikendalikan dan dilindungi dengan cermat—mudah pecah jika tidak berhati-hati semasa penyelenggaraan. Rancang prosedur pengendalian berpenarafan bilik bersih, dan semak semula bahawa belanjawan terma dan sasaran masa kitaran sesuai dengan had kadar peningkatan lampu.

Sokongan on Eco-Friendly Warm IR Heaters

Pemanas sokongan untuk sistem kriogenik

Lamp inframerah sokongan molibdenum