IR on Eco-Friendly Warm IR Heaters

Reflektor aluminium untuk lampu IR

Mon, 27 Jul 2026 17:11:56 +0800

Mengelakkan Bahaya Semasa Membersihkan Dengan Bahan Kimia yang Mudah Terbakar
Sejujurnya, menggunakan lampu inframerah dalam proses pembersihan menggunakan bahan kimia ibarat bermain dengan api. Terdapat wap-wap yang mudah terbakar, serta bahan-bahan korosif yang boleh merosakkan apa sahaja yang disentuhnya. Jika kita gunakan lampu biasa, itu sama saja seperti mencari bencana.

Itulah sebabnya kita tidak sekadar “memasang” lampu tersebut begitu sahaja. Kita membungkusnya dengan reflektor aluminium berkualiti tinggi, dan menggunakan penutup yang kuat untuk memastikan bahagian elektriknya tidak terdedah kepada gas-gas berbahaya tersebut.

Penderia IR berketepatan tinggi untuk wafer

Sun, 19 Jul 2026 10:18:49 +0800

Mengurangkan Pelepasan Karbon dalam Proses Pemprosesan Wafer dengan Penggunaan Pemanasan IR yang Tepat
Jika anda pernah bekerja di fasiliti pemprosesan semikonduktor, anda pasti tahu betapa pentingnya ketepatan suhu dalam proses tersebut. Selama ini, kita bergantung pada ketuhar berresistansi tinggi untuk proses pemanasan dan pengerasan wafer. Namun, sejujurnya, kaedah ini sangat memakan tenaga. Jika kita benar-benar ingin mencapai keadaan neutral karbon, kita perlu menghentikan pembaziran tenaga tersebut.

Di sinilah peranan lampu pemanasan IR menjadi penting.

Prinsip fizik di sebaliknya
Fikirkan bagaimana cara kerja ketuhar tradisional. Ia memanaskan udara terlebih dahulu, kemudian udara tersebut memanaskan ruang dalaman ketuhar, dan akhirnya memanaskan permukaan wafer. Cara ini tidak efisien. Berbeza dengan IR; ia menggunakan radiasi untuk memanaskan permukaan wafer secara langsung. Dengan cara ini, kita dapat menjimatkan masa, serta mengurangkan penggunaan tenaga bagi setiap kumpulan wafer yang diproses. Inilah cara untuk mengurangkan jejak karbon.

Pengawal voltan untuk fab IR

Sat, 20 Jun 2026 02:42:25 +0800

Di fasiliti pengeluaran ini, perubahan suhu sebanyak 1°C semasa proses pembakaran bahan fotoresist bukanlah angka yang kecil. Perubahan ini akan menyebabkan penyebaran lebar garisan, masalah kualiti produk yang tidak memuaskan, dan pembaziran bahan mentah. Pemanasan menggunakan cahaya inframerah boleh dilakukan dengan tepat, tetapi hanya jika voltan yang digunakan untuk menggerakkan sumber cahaya inframerah itu stabil, agar suhu dapat dikawal dengan baik. Kami telah mencipta alat pengawal voltan inframerah khusus untuk memenuhi syarat-syarat tersebut.

Apa yang penting dari segi teknikal:
Kami berusaha untuk mencapai keseragaman suhu sekitar ±0.1°C pada seluruh permukaan wafer, dengan mengekalkan kuasa input inframerah pada tahap yang stabil. Dengan cara ini, fluktuasi suhu yang disebabkan oleh faktor-faktor tertentu tidak akan mempengaruhi suhu maksimum. Alat pengawal voltan ini sesuai digunakan dalam persekitaran bilik bersih kelas 1–100, kerana bahan-bahan yang digunakan dapat mengurangkan penghasilan zarah-zarah kecil hingga hampir sifar. Proses pembakaran yang dilakukan secara manual atau automatik juga dapat diulang-ulang dengan hasil yang konsisten, kerana alat pengawal ini dapat mengimbangi turun naik voltan sebelum ia sampai ke sumber cahaya inframerah. Alat ini dapat beroperasi 24/7 tanpa gangguan suhu, dan jangka hayatnya boleh mencapai 5,000 jam dengan penurunan prestasi kurang dari 5%.

Suhu pembakaran lembut fotoresis IR

Sun, 31 May 2026 02:55:22 +0800

Di lantai litografi, soft bake bukan sekadar pemanasan awal. Ia adalah langkah yang menetapkan profil pelarut fotoresist, mengunci ketebalan filem, dan menulis toleransi dimensi yang terus dibawa ke proses pendedahan dan pembangunan. Apabila pembakaran tidak sekata, anda tidak mendapat pergeseran lembut. Anda mendapat variasi lebar garis, pembentukan tepi sisi, dan penurunan hasil yang muncul tepat di tempat yang kritikal—ujian parametrik.

Hotplate konvensional boleh menyembunyikan ketidaksekatan dengan masa rendaman yang panjang, tetapi wafer terus berubah. Ketumpatan corak berubah, ketinggian susunan berbeza, dan substrat semakin nipis—setiap satu mengubah beban terma. Pemanasan inframerah, apabila dibina untuk disiplin semikonduktor, mendedahkan perkara tersebut. Ia menyampaikan haba ke tempat yang diperlukan—cepat, dan dengan kawalan yang boleh diulang.