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		<title>Wafer on Eco-Friendly Warm IR Heaters</title>
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				<title>Asciugatrice a nastro _con riscaldamento uniforme</title>
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				<pubDate>Tue, 09 Jun 2026 01:30:44 +0800</pubDate>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://warm-ir-heater-eco.com/images/eeeb9669114c0c0a0b2bef3f902d01a9.png&#34; alt=&#34;Asciugatrice a nastro _con riscaldamento uniforme&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Il wafer colpisce la pista di rotazione e il timer si avvia. In linea, un’oscillazione di temperatura di un minuto è sufficiente a spostare la dimensione critica, e una particella può compromettere l’intero lotto. I vecchi asciugatori non garantivano uniformità su tutta la superficie da 300 mm rimanendo al contempo puliti. Abbiamo sviluppato l’Uniform Heating Wafer Dryer per eliminare questa variabilità.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Cosa conta sotto la superficie&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;All’interno, emettitori a infrarosso a onde corte sono posizionati in una camera ottimizzata con riflettori per &lt;a href=&#34;https://goldisgood.com&#34;&gt;garantire&lt;/a&gt; un’uniformità termica a livello wafer di ±0,1°C su 300 mm, supportata da una mappa calibrata a 9 punti. Le rampe di temperatura superano i 10°C/s con sovraelongazione controllata, in modo che il budget termico sia allineato con le ricette di soft bake e hard bake senza sovracurare il fotoresist.&lt;/p&gt;</description>
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