Soluzione di riscaldamento per impianti Fab

Fri, 03 Jul 2026 04:09:28 +0800

Nelle linee di produzione, il valore di regolazione del forno è semplicemente un numero visualizzato su uno schermo. Il vero processo di lavorazione avviene invece lungo tutto il perimetro del wafer. Se c’è una variazione nella uniformità termica, anche il controllo della dimensione dei pattern sul wafer ne risente; allo stesso modo, anche i parametri legati all’etching vengono influenzati negativamente.

Cosa è importante dal punto di vista tecnico
Abbiamo progettato questo sistema basandoci su un controllo della temperatura a livello del wafer, con un margine di errore di ±0,1°C. In questo modo, i processi di “soft bake” e “hard bake” avvengono in modo uniforme su tutto il wafer. L’uso di radiazioni infrarosse a breve e media lunghezza d’onda, trasmesse attraverso elementi in quarzo e fibra di carbonio, permette di ottenere tempi di riscaldamento rapidi e stabili, senza superare i limiti termici consentiti.

Soluzione on Eco-Friendly Warm IR Heaters

Soluzione di riscaldamento per impianti Fab