Lampada a infrarossi per la polimerizzazione del fotorestist

Thu, 02 Jul 2026 04:06:17 +0800

Nella fase di litografia, si sa bene che anche un piccolo spostamento di mezzo grado sul wafer durante la fase di essiccazione può compromettere il controllo delle dimensioni dei bordi e delle linee presenti sul wafer stesso. I soli valori di impostazione non bastano per garantire una qualità ottimale del prodotto. È necessaria un’omogeneità termica affidabile, ciclo dopo ciclo.

Cosa è importante dal punto di vista tecnico
Le lampade a infrarossi utilizzate per la polimerizzazione del fotoresist garantiscono un’omogeneità della temperatura su tutto il wafer entro ±0,1°C, grazie a una rapida regolazione della temperatura stessa. Lo spettro infrarosso viene scelto per assicurare un riscaldamento efficace con il minor stress possibile sul substrato. Il corpo della lampada e le sue componenti ottiche sono progettati per funzionare in ambienti di tipo Class 1–100. L’assenza totale di particelle generate durante il processo è garantita grazie alle caratteristiche dei materiali utilizzati, alla geometria della struttura e al flusso d’aria presente nell’ambiente di lavoro. Si ottengono così profili di essiccazione ripetibili, prestazioni stabili per oltre 5.000 ore, e un controllo del processo efficace 24/7.

Fotorestringente on Eco-Friendly Warm IR Heaters

Lampada a infrarossi per la polimerizzazione del fotorestist