Lampada per la cottura del fotoresist

Fri, 26 Jun 2026 02:01:33 +0800

Nel processo di litografia, anche un’oscillazione di mezzo grado durante la fase di riscaldamento del fotorestituto è sufficiente per far variare le dimensioni critiche del componente prodotto di alcuni nanometri. Questo tipo di oscillazione comporta la necessità di effettuare rifacimenti, aumentando così i costi e i rifiuti. Abbiamo progettato le lampade utilizzate per il riscaldamento del fotorestituto in modo che il loro comportamento termico rimanga prevedibile, ciclo dopo ciclo.

Cosa è importante sotto il profilo tecnico
Utilizziamo emettitori a infrarossi a breve lunghezza d’onda, che riscaldano direttamente e rapidamente il fotorestituto. La temperatura di uscita rimane stabile compreso tra 50°C e 250°C. L’uniformità della temperatura su tutta la superficie del wafer è di ±0,1°C, mentre la ripetibilità è di ±0,5°C da lotti diversi. Le lampade sono compatibili con ambienti di tipo Class 1 fino a Class 100; i componenti e i materiali utilizzati garantiscono una bassa emissione di gas e assenza di particelle. La temperatura viene misurata e registrata in tempo reale, così da poter collegare ogni ciclo di produzione ai risultati ottenuti, grazie a dati tracciabili.

Fotoresistente on Eco-Friendly Warm IR Heaters

Lampada per la cottura del fotoresist