Curazione on Eco-Friendly Warm IR Heaters

Riflettore per lampada di essiccazione dei wafer

Thu, 23 Jul 2026 10:04:57 +0800

Mantenere le cose al sicuro durante il trattamento delle wafer nelle zone chimiche
Per procedere con il trattamento delle wafer è necessaria una grande quantità di calore. Tuttavia, se si posizionano le lampade troppo vicino alle postazioni di pulizia chimica, sorgono dei problemi: i vapori volatili sono ovunque, e l’ultima cosa che si vuole è che una scintilla trasformi il luogo di lavoro in una vera e propria “bomba”.
Ecco perché prestiamo molta attenzione alla sigillatura e alla riflessione del calore. Non si tratta soltanto di evitare che il calore si disperda, ma anche di assicurarsi che rimanga esattamente dove dovrebbe essere.

Fabbrica certificata di lampade per indurimento a infrarossi

Thu, 09 Jul 2026 14:16:34 +0800

Lampe per la polimerizzazione a infrarossi certificate: la soluzione ideale per il essiccazione dei semiconduttori
Parliamo di lampade per la polimerizzazione a infrarossi, progettate apposta per l’industria dei semiconduttori, dove non ci sono scuse. Niente piombo: funzionamento pulito ed efficiente. Inoltre, tali lampade rispettano pienamente gli standard globali. In queste linee di produzione, l’essiccazione non significa semplicemente aumentare la temperatura; si tratta di un processo preciso e controllato, che deve avvenire in condizioni ottimali.

Lampada a infrarossi per la polimerizzazione del fotorestist

Thu, 02 Jul 2026 04:06:17 +0800

Nella fase di litografia, si sa bene che anche un piccolo spostamento di mezzo grado sul wafer durante la fase di essiccazione può compromettere il controllo delle dimensioni dei bordi e delle linee presenti sul wafer stesso. I soli valori di impostazione non bastano per garantire una qualità ottimale del prodotto. È necessaria un’omogeneità termica affidabile, ciclo dopo ciclo.

Cosa è importante dal punto di vista tecnico
Le lampade a infrarossi utilizzate per la polimerizzazione del fotoresist garantiscono un’omogeneità della temperatura su tutto il wafer entro ±0,1°C, grazie a una rapida regolazione della temperatura stessa. Lo spettro infrarosso viene scelto per assicurare un riscaldamento efficace con il minor stress possibile sul substrato. Il corpo della lampada e le sue componenti ottiche sono progettati per funzionare in ambienti di tipo Class 1–100. L’assenza totale di particelle generate durante il processo è garantita grazie alle caratteristiche dei materiali utilizzati, alla geometria della struttura e al flusso d’aria presente nell’ambiente di lavoro. Si ottengono così profili di essiccazione ripetibili, prestazioni stabili per oltre 5.000 ore, e un controllo del processo efficace 24/7.