<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Pelapis on Eco-Friendly Warm IR Heaters</title>
		<link>http://warm-ir-heater-eco.com/id/tags/pelapis/</link>
		<description>Recent content in Pelapis on Eco-Friendly Warm IR Heaters</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>id</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Tue, 30 Jun 2026 02:12:20 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://warm-ir-heater-eco.com/id/tags/pelapis/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Lampu pemanas untuk alat spin coater</title>
				<link>http://warm-ir-heater-eco.com/id/posts/spin-coater-bake-lamp/</link>
				<pubDate>Tue, 30 Jun 2026 02:12:20 +0800</pubDate>
				<guid>http://warm-ir-heater-eco.com/id/posts/spin-coater-bake-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://warm-ir-heater-eco.com/images/1764273a9805a56244015746cb190d47.png&#34; alt=&#34;Lampu pemanas untuk alat spin coater&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Di lantai proses litografi, proses pemanasan bukanlah sekadar langkah pemanasan awal saja. Proses ini digunakan untuk menentukan profil fotorezisten yang akan digunakan. Perubahan suhu sebesar 2°C selama proses pemanasan dapat mengganggu kontrol dimensi yang tepat, dan menyebabkan munculnya kotoran di sepanjang garis produksi. Lampu pemanas pada alat spin coater memiliki satu tugas saja, yaitu mempertahankan suhu proses secara konsisten, dari menit ke menit.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Yang penting dalam desain sistem ini&lt;/strong&gt;&#xA;Kami menggunakan emitor inframerah berfrekuensi pendek yang berada dalam selubung kuarsa, karena emitor tersebut responsif dan stabil. Hal ini memungkinkan terciptanya keseragaman suhu di permukaan wafer hingga ±0,1°C, serta ketepatan suhu pemanasan fotorezisten yang memastikan kontrol suhu yang baik.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
