Di lantai pabrik, perubahan suhu sebesar 1°C selama proses pemanasan fotoresist bukanlah angka yang “kecil”. Perubahan tersebut akan berdampak pada lebar garis gambar yang tidak seragam, adanya kotoran pada permukaan wafer, serta peningkatan jumlah limbah. Pemanasan menggunakan sinar inframerah dapat dilakukan dengan akurat, tetapi hanya jika tegangan yang mengalir ke sumber inframerah cukup stabil agar efek termalnya tetap terkendali. Kami merancang regulator tegangan inframerah yang sesuai dengan kondisi tersebut.
Yang penting secara teknis:
Kami berusaha mencapai keseragaman suhu sebesar ±0,1°C di seluruh permukaan wafer, dengan cara menjaga energi masuk inframerah tetap stabil dalam rentang toleransi yang ketat. Dengan demikian, fluktuasi suhu akibat faktor-faktor eksternal tidak akan mempengaruhi suhu maksimum yang dihasilkan. Regulator ini cocok digunakan di ruang bersih kelas 1–100, karena bahan dan finishingnya mampu mengurangi pembentukan partikel hingga mendekati nol. Proses pemanasan yang dilakukan pun tetap konsisten, karena kontroler dapat mengompensasi fluktuasi tegangan sebelum ia sampai ke emitor. Alat ini dapat beroperasi 24/7 tanpa gangguan termal, dan masa pakainya bisa mencapai lebih dari 5.000 jam dengan penurunan performa kurang dari 5%.
Di fasilitas litografi, waktu siklus, tingkat keberhasilan produksi, dan tingkat kebersihan merupakan hal-hal yang sangat penting. Energi inframerah yang stabil dapat menghindari kerja ulang akibat ketidakserenaan suhu selama proses pemanasan, mempercepat proses kalibrasi, dan membantu menjaga dimensi-dimensi kritis wafer tetap stabil. Selain itu, alat ini juga dapat menghemat energi dengan menghindari kondisi overshoot dan siklus berulang-ulang. Perawatannya pun menjadi lebih mudah, karena emitor inframerah terlindungi dari tekanan tegangan yang berlebih.
Berikut adalah detail praktisnya: Pilihlah regulator yang sesuai dengan jenis emitor inframerah—gelombang pendek, gelombang sedang, atau serat karbon—and pastikan dimensi konektor dan montase sesuai dengan antarmuka alat yang digunakan. Proses pengaturan alat ini sangat cepat: Anda hanya perlu menyetel respons PID sesuai dengan massa termal dari plat panas atau oven inframerah yang digunakan. Di ruang berkelembapan tinggi, perlu dipastikan bahwa kondensasi di sekitar alat dapat dikendalikan, agar stabilitas alat tetap terjaga dalam jangka panjang.