Lampe de cuisson pour résist photochromique

Fri, 26 Jun 2026 02:01:33 +0800

Sur le poste de lithographie, un décalage de demi-degré pendant le processus de séchage du réactif photochimique suffit pour que les dimensions critiques changent de quelques nanomètres. Un tel décalage entraîne des retouches, des déchets, et des écarts par rapport aux spécifications prévues. Nous avons conçu nos lampes de séchage du réactif photochimique de manière à garantir un comportement thermique prévisible, d’un cycle à l’autre.

Ce qui est important dans le fonctionnement interne Nos lampes émettent des rayons infrarouges à courte longueur d’onde, ce qui permet de chauffer directement et rapidement le réactif photochimique. La température reste stable entre 50°C et 250°C. Sur toute la surface de la tranche de silicium, l’uniformité de la température est de ±0,1°C, tandis que la reproductibilité est de ±0,5°C d’une série à l’autre. Ces lampes sont compatibles avec des salles propres de classe 1 à classe 100 ; leurs composants et matériaux ont été choisis pour minimiser les émissions gazeuses et éviter toute génération de particules. La température est mesurée et enregistrée en temps réel, ce qui permet de lier chaque cycle de production aux résultats obtenus, grâce à des données traçables.

Cuisson Au Four on Eco-Friendly Warm IR Heaters

Lampe de cuisson pour résist photochromique