http://warm-ir-heater-eco.com/fa/tags/bake/ Recent content in Bake on Eco-Friendly Warm IR Heaters Hugo fa Tue, 30 Jun 2026 02:12:20 +0800 http://warm-ir-heater-eco.com/fa/posts/spin-coater-bake-lamp/ Tue, 30 Jun 2026 02:12:20 +0800 http://warm-ir-heater-eco.com/fa/posts/spin-coater-bake-lamp/ <p><img src="http://warm-ir-heater-eco.com/images/1764273a9805a56244015746cb190d47.png" alt="لامپ پخت پوششدهنده اسپین"></p> <p>در فرآیند لیتوگرافی، هدف از استفاده از حرارت، گرم کردن مواد نیست؛ بلکه هدف، تنظیم پروفایل رفتار مواد فوتورزیست است.<br> هرگونه تغییر ۲ درجه سانتی‌گرادی در دمای حرارت، می‌تواند باعث اختلال در کنترل ابعاد محصول شود و لکه‌هایی روی سطح محصول ایجاد کند. لامپ مورد استفاده برای حرارت دادن مواد، تنها یک وظیفه دارد: حفظ دمای ثابت در طول زمان.</p> <p><strong>چه چیزهایی اهمیت دارد؟</strong><br> ما از منابع نوری اینفرارد با طول موج کوتاه در پوشش کوارتزی استفاده می‌کنیم؛ زیرا این منابع نوری سریع پاسخ می‌دهند و پایداری خوبی دارند. این امر باعث ایجاد یکنواختی دمایی در سطح ویفر، در محدوده ±۰.۱ درجه سانتی‌گراد، می‌شود؛ همچنین دقت دمایی لازم برای فرآیند حرارت دادن مواد فوتورزیست نیز حفظ می‌شود.</p> http://warm-ir-heater-eco.com/fa/posts/photoresist-soft-bake-temperature-ir/ Sun, 31 May 2026 02:55:22 +0800 http://warm-ir-heater-eco.com/fa/posts/photoresist-soft-bake-temperature-ir/ <p><img src="http://warm-ir-heater-eco.com/images/0ea7296bcdd661f341d1983d454c4037.png" alt="دمای پخت نرم فوتورزیست IR"></p> <p>در سالن لیتوگرافی، سافت بیک مرحله‌ای برای گرم کردن اولیه نیست. این مرحله تعیین‌کننده پروفایل حلال فوتورزیست، تثبیت ضخامت فیلم و ثبت تلرانس‌های ابعادی است که مستقیماً به مرحله اکسپوژر و توسعه منتقل می‌شوند. در صورت پخت نامتوازن، تغییر آرامی رخ نمی‌دهد، بلکه تغییر عرض خطوط، ایجاد پایه در دیواره جانبی و کاهش بازدهی که در آزمون‌های پارامتری به وضوح دیده می‌شود، بروز می‌کند.</p> <p>صفحات گرم‌کن سنتی می‌توانند با زمان‌های خیساندن طولانی عدم یکنواختی را پنهان کنند، اما ویفرها به طور مداوم تغییر می‌کنند. چگالی الگو، ارتفاع لایه‌ها و ضخامت زیرلایه‌ها تغییر می‌کند که هرکدام بار حرارتی را جابجا می‌کند. گرمایش مادون قرمز، زمانی که برای کاربردهای نیمه‌هادی طراحی شده باشد، این ماسک را کنار می‌زند. این روش گرما را سریع و با کنترل تکرارشونده دقیق در محل مورد نیاز اعمال می‌کند.</p>