Fotoretículo on Eco-Friendly Warm IR Heaters

Lámpara infrarroja para curado de fotoresistente

Thu, 02 Jul 2026 04:06:17 +0800

En el proceso de litografía, ya se sabe cómo funciona todo: una desviación de medio grado en la posición de la oblea durante el proceso de curado puede afectar negativamente el control del grosor de las líneas y de los márgenes entre ellas. Los valores establecidos por sí solos no son suficientes para garantizar un rendimiento óptimo. Se necesita una uniformidad térmica fiable, ciclo tras ciclo.

Lo que realmente importa desde el punto de vista técnico Las lámparas infrarrojas utilizadas para curar el fotorrésist mantienen una uniformidad térmica en la oblea de ±0,1°C, con una respuesta rápida que permite controlar eficazmente la temperatura. Se elige el espectro infrarrojo porque permite distribuir el calor de manera eficiente, con mínimo estrés en el sustrato. El cuerpo de la lámpara y sus componentes ópticos están diseñados para funcionar en entornos de clase 1–100. La ausencia total de partículas no es solo un objetivo; está integrada en los materiales, la geometría y el diseño del sistema. Se obtienen perfiles de curado reproducibles, un rendimiento estable durante más de 5,000 horas, y un control del proceso que puede funcionar 24/7.

Lámpara de secado para fotorresistas

Fri, 26 Jun 2026 02:01:33 +0800

En el proceso de litografía, un desvío de medio grado en la temperatura durante el proceso de secado del fotorrésist es suficiente para que las dimensiones críticas cambien en nanómetros. Ese tipo de desvío provoca la necesidad de realizar trabajos adicionales, generando desperdicios y dificultando el cumplimiento de los parámetros establecidos. Hemos diseñado nuestras lámparas para el secado del fotorrésist de modo que su comportamiento térmico sea predecible, de ciclo en ciclo.

Lo que realmente importa Utilizamos emisores de infrarrojo de onda corta (NIR), que calientan directamente el fotorrésist de manera rápida. La temperatura se mantiene estable entre 50°C y 250°C. La uniformidad de temperatura en toda la superficie del wafer es de ±0,1°C, mientras que la reproducibilidad es de ±0,5°C de lote en lote. Las lámparas son compatibles con entornos de clase 1 a clase 100; los componentes y materiales utilizados están diseñados para minimizar la emisión de gases y la generación de partículas. La temperatura se mide y registra en tiempo real, lo que permite relacionar cada ciclo de producción con los resultados obtenidos, gracias a datos trazables.