Lámpara de secado para fotorresistas

Fri, 26 Jun 2026 02:01:33 +0800

En el proceso de litografía, un desvío de medio grado en la temperatura durante el proceso de secado del fotorrésist es suficiente para que las dimensiones críticas cambien en nanómetros. Ese tipo de desvío provoca la necesidad de realizar trabajos adicionales, generando desperdicios y dificultando el cumplimiento de los parámetros establecidos. Hemos diseñado nuestras lámparas para el secado del fotorrésist de modo que su comportamiento térmico sea predecible, de ciclo en ciclo.

Lo que realmente importa Utilizamos emisores de infrarrojo de onda corta (NIR), que calientan directamente el fotorrésist de manera rápida. La temperatura se mantiene estable entre 50°C y 250°C. La uniformidad de temperatura en toda la superficie del wafer es de ±0,1°C, mientras que la reproducibilidad es de ±0,5°C de lote en lote. Las lámparas son compatibles con entornos de clase 1 a clase 100; los componentes y materiales utilizados están diseñados para minimizar la emisión de gases y la generación de partículas. La temperatura se mide y registra en tiempo real, lo que permite relacionar cada ciclo de producción con los resultados obtenidos, gracias a datos trazables.

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Lámpara de secado para fotorresistas