Heizung zur Unterstützung des Kryosystems

Sun, 28 Jun 2026 02:11:53 +0800

In der Fertigungshalle ist Temperaturstabilität keine „nice-to-have“-Eigenschaft – sie ist vielmehr ein entscheidender Faktor für den gesamten Prozess. Bei der Trocknung der Wafern sowie bei der Handhabung des Photoresists kann bereits eine Abweichung von einigen Zehntelgraden dazu führen, dass kritische Abmessungen beeinflusst werden, Rückstände entstehen oder Hautdefekte auftreten. Wir haben unsere kryogenen Heizsysteme so konzipiert, dass sie die Temperatur genau dort stabil halten, wo Substrat und Prozess aufeinandertreffen.

Was technisch wichtig ist:
Wir kombinieren einen kompakten Heizelementkörper mit kurzwelligem Infrarotlicht sowie einer schnellen Steuerung, um eine Temperaturgleichmäßigkeit auf Waferniveau von ±0,1°C zu erreichen. Das thermische Design vermeidet Kaltstellen und sorgt dafür, dass die Ergebnisse von Charge zu Charge konstant bleiben – genau das, was man braucht, wenn die Zeitfenster für den Prozess sehr eng sind. Die Leistung bleibt über 5.000 Stunden hinweg konstant. Zudem wurden Materialien und Verbindungen so gewählt, dass Partikelbildung minimiert wird. Dadurch eignet sich der Heizer perfekt für Reinräume der Klassen 1–100.

Molybdän gestützte Infrarotlampe

Sat, 06 Jun 2026 01:44:27 +0800

Auf dem Waferboden ist das Backen von Photoresist nicht nur ein Temperaturschritt – es ist ein thermischer Vertrag. Eine Abweichung von 1°C beim Softbake oder Hardbake verschiebt kritische Dimensionen und reduziert gleichzeitig die Linienausbeute. Wir haben die molybdängestützte Infrarotlampe entwickelt, um diese thermische Linie stabil zu halten, Zyklus für Zyklus.
Technisch relevante Aspekte
Der Emitter arbeitet mit kurzwelliger Infrarotstrahlung für schnelles, gerichtetes Heizen, das innerhalb des thermischen Budgets des Photoresists bleibt. Molybdänstützstrukturen gewährleisten hohe Temperaturstabilität bei geringem Ausgasverhalten, was die Partikelzahl auch in Reinraumbereichen der Klassen 1–100 niedrig hält. Das System zielt auf Wafer-gleichmäßigkeit von ±0,1°C über die Backfläche ab, und die Wiederholgenauigkeit ist so ausgelegt, dass der Sollwert eng eingehalten wird. Die Leistung bleibt über lange Laufzeiten stabil – im Feld haben Geräte mehr als 5.000 Stunden mit weniger als 5 % Leistungsverlust erreicht.
Warum das praktisch funktioniert: Die Verarbeitung von Photoresist ist der Punkt, an dem thermische Kontrolle zu Ertragskontrolle wird. Diese Lampe sorgt dafür, dass Softbake- und Hardbake-Profile konsistent bleiben, was Scumming, Footing und Fluktuationen bei Restlösungsmitteln reduziert.
Der Nutzen: Weniger Nacharbeit, geringere Ausschussraten und zuverlässige CD-Leistung durch die Lithografie. Ein stabiles Temperaturprofil ermöglicht außerdem engere Prozessfenster, und die reinraumkompatible Konstruktion reduziert Kontaminationsereignisse, die den Fertigungsprozess stoppen könnten.
Einige Hinweise zur Anwendung: Die Installation erfordert die Anpassung des Lampenfußabdrucks und der elektrischen Schnittstelle an den Bake-Track oder die Heizplatte. Die Quarzhülle muss sorgfältig gehandhabt und geschützt werden – sie ist bei mangelnder Vorsicht während der Wartung leicht zerbrechlich.
Planen Sie handhabungstechnische Abläufe entsprechend für den Reinraum und prüfen Sie, ob Ihr thermisches Budget und die Zykluszeiten mit den Rampenraten der Lampe kompatibel sind.

Unterstützung on Eco-Friendly Warm IR Heaters

Heizung zur Unterstützung des Kryosystems

Molybdän gestützte Infrarotlampe