Infrarotlampe zur Aushärtung des Fotolacks

Thu, 02 Jul 2026 04:06:17 +0800

Im Bereich der Lithografie gilt folgendes Prinzip: Eine Abweichung von einem halben Grad während des Weich- oder Hartbrennvorgangs führt dazu, dass die Kontrolle über die Dicke der Schichten sowie die Genauigkeit der Linien beeinträchtigt wird. Allein die Einstellungen reichen nicht aus, um eine gute Qualität zu gewährleisten. Man benötigt vielmehr eine zuverlässige Wärmeverteilung – von Zyklus zu Zyklus.

Was technisch wichtig ist: Unsere Infrarotlampen für die Aushärtung des Photoresists sorgen dafür, dass die Temperatur auf der Waferoberfläche innerhalb von ±0,1°C konstant bleibt. Zudem ermöglichen sie eine schnelle Erhitzung der Wafer, wodurch der Wärmeverbrauch minimiert wird. Das NIR-Spektrum wird gewählt, damit die Wärme effektiv ins Material eindringt, ohne dabei Stress auf dem Substrat entstehen zu lassen. Der Lampenkörper sowie die Optik sind so gestaltet, dass sie mit Reinräumen der Klassen 1–100 kompatibel sind. Die Erzeugung von Partikeln wird durch die Materialien, die Geometrie sowie die Luftströmungen vermieden. Dadurch werden wiederholbare Brennprofile erzielt, eine stabile Leistung über 5.000 Stunden hinweg sowie eine Prozesskontrolle, die rund um die Uhr möglich ist.

Photoresist on Eco-Friendly Warm IR Heaters

Infrarotlampe zur Aushärtung des Fotolacks