Heizung zur Unterstützung des Kryosystems

Sun, 28 Jun 2026 02:11:53 +0800

In der Fertigungshalle ist Temperaturstabilität keine „nice-to-have“-Eigenschaft – sie ist vielmehr ein entscheidender Faktor für den gesamten Prozess. Bei der Trocknung der Wafern sowie bei der Handhabung des Photoresists kann bereits eine Abweichung von einigen Zehntelgraden dazu führen, dass kritische Abmessungen beeinflusst werden, Rückstände entstehen oder Hautdefekte auftreten. Wir haben unsere kryogenen Heizsysteme so konzipiert, dass sie die Temperatur genau dort stabil halten, wo Substrat und Prozess aufeinandertreffen.

Was technisch wichtig ist:
Wir kombinieren einen kompakten Heizelementkörper mit kurzwelligem Infrarotlicht sowie einer schnellen Steuerung, um eine Temperaturgleichmäßigkeit auf Waferniveau von ±0,1°C zu erreichen. Das thermische Design vermeidet Kaltstellen und sorgt dafür, dass die Ergebnisse von Charge zu Charge konstant bleiben – genau das, was man braucht, wenn die Zeitfenster für den Prozess sehr eng sind. Die Leistung bleibt über 5.000 Stunden hinweg konstant. Zudem wurden Materialien und Verbindungen so gewählt, dass Partikelbildung minimiert wird. Dadurch eignet sich der Heizer perfekt für Reinräume der Klassen 1–100.

Kryogen on Eco-Friendly Warm IR Heaters

Heizung zur Unterstützung des Kryosystems