Přestaňte ohřívat stroj – začněte sušit wafer. Pokud jste někdy pracovali na výrobě MEMS zařízení, víte, jak těžké je sušit wafery. Musíte neustále...

Na litografické lince není mezi soft bake a hard bake mnoho prostoru pro odchylky. Posun o půl stupně může změnit tloušťku fotorezistu, posunout...