Jak udržet věci v bezpečí při čištění s těkavými chemikáliemi Buďme upřímní: umístění infračervených (IR) lamp do zařízení na chemické čištění je...

Správné ohřevání polovodičových desek (bez plýtvání energií) Při procesu oplachování silikonových desek je potřeba najít správnou rovnováhu....

Přestaňte plýtvat teplem: Kouzlo kvartzu s zlatým povlakem Při výrobě čipů rychle zjistíte, že dostat teplo na povrch křemíku není jen tak. Problém...

Udržování bezpečnosti při zpracování polovodičových desek v chemických prostředích Pro zpracování polovodičových desek je potřeba hodně tepla. Ale...

Jak udržet čistou místnost třídy 100 opravdu čistou Pokud provozujete místnost třídy 100, určitě znáte ten strach z kontaminace prachovými částicemi....

Správné ohřívání při výrobě biosenzorů Výroba biosenzorů vyžaduje určitou rovnováhu. I mírná odchylka teploty může způsobit, že celá série produktů...

Udržování bezpečnosti při použití infračerveného záření v blízkosti těkavých chemikálií Pokud provozujete linky na chemické čištění, určitě znáte...

Udržení čisté pracovny třídy 100 opravdu čistou Při práci v prostředí třídy 100 představuje vytápění skutečný problém. Nejde jen o to zahřát prostor...

Proč přecházíme na UV infračervené vysoušení v polovodičových provozech Svět polovodičů se odchyluje od těch staromódních konvekčních pecí. Vidíme...

Omezení uhlíkové stopy v čistých místnostech: Proč skutečně funguje ohřev pomocí infračervených lamp Buďme upřímní – čisté místnosti spotřebovávají...

Certifikované infračervené lampy na sušení: skutečné řešení pro sušení polovodičů Pojďme mluvit o infračervených lampách určených k sušení polovodičů...

V prostředí lithografie platí jednoduché pravidlo: i malý posun o půl stupně během procesu zahřívání čipu může narušit kontrolu tloušťky vrstvy a...

V prostorách určených k litografii není proces zahřívání jen způsobem na rozehřátí zařízení – slouží k nastavení profilu fotorezistu. Jakákoli...

V procesu litografie stačí půl stupně posunu během měkkého zahřívání fotorezistu k tomu, aby se kritická velikost změnila o několik nanometrů. Takový...

V prostředí výroby stačí během zahřívání fotoresistu pouhý nárůst teploty o 0,5 °C k zničení celé výrobní série. Potřebujete tedy spolehlivé...

Na waferovém podlaze není pečení fotoresistu pouze teplotním krokem – je to termální kontrakt. Odchylka 1 °C během měkkého nebo tvrdého pečení posune...

Na výrobní lince, Mini LED čipy netolerují tepelný drift. Pokud se teplota balíkového světla pohybuje více než ±0,1 °C, máte před sebou posunuté...

Na litografické lince není mezi soft bake a hard bake mnoho prostoru pro odchylky. Posun o půl stupně může změnit tloušťku fotorezistu, posunout...