In der Lithografieabteilung reicht bereits eine Abweichung von einem halben Grad bei der Erhitzung des Photoresists aus, um die kritischen Abmessungen um Nanometer zu verändern. Solche Abweichungen führen zu Wiedarbeiten, Ausschuss und fehlenden Qualitätsstandards. Wir haben unsere Lampen so konstruiert, dass das thermische Verhalten von Schicht zu Schicht konstant bleibt.
Was wirklich wichtig ist
Wir verwenden Kurzwellinfrarot-Strahler, die den Photoresist direkt und schnell erhitzen. Die Ausgangstemperatur bleibt zwischen 50°C und 250°C konstant. Die Homogenität auf der Waferoberfläche liegt bei ±0,1°C, die Wiederholgenauigkeit zwischen den Chargen bei ±0,5°C. Die Lampen sind für alle Reinraumklassen von Klasse 1 bis Klasse 100 geeignet – die verwendeten Komponenten und Materialien sorgen außerdem für eine geringe Gasemission sowie keine Partikelbildung. Die Temperatur wird in Echtzeit gemessen und protokolliert, sodass man jede Produktionsstufe anhand nachvollziehbarer Daten beurteilen kann.
Warum es funktioniert
Die Lampe übernimmt alle wichtigen thermischen Prozesse – das Trocknen der Wafer, die Erhitzung des Photoresists sowie dessen Aushärten – ohne das thermische Gleichgewicht zu stören. Der Aufwärmvorgang ist schnell, wodurch die Zykluszeit verkürzt wird, ohne dass die Kristallisation des Photoresists beeinträchtigt wird. Die schmale Spektralantwort der Lampe sorgt dafür, dass die Erwärmung des Substrats minimiert wird – dadurch werden die darunterliegenden Schichten geschützt. Das Ergebnis sind weniger Defekte, weniger Ausschuss sowie eine bessere Kontrolle über die Abmessungen und den Gehalt an Restlösungsmitteln. Der Energieverbrauch sinkt, da die Wärme in den Photoresist geleitet wird, nicht in die Gerätekomponenten oder den Raum.
Einige praktische Aspekte
Die Intensität des NIR-Lichts nimmt mit dem Quadrat der Entfernung ab – daher muss die Arbeitsentfernung festgelegt und konstant gehalten werden. Vor jeder Produktionsschritt ist ein kurzer Aufwärm- und Kalibrierungsprozess notwendig. Stellen Sie sicher, dass das Material des Chuck sowie die Geometrie des Reflektors zum thermischen Profil der Lampe passen. Die Integration in bestehende Anlagen ist einfach möglich – planen Sie jedoch Zeit ein, um die mechanischen Komponenten sowie die Kühlkreisläufe anzupassen.